Placa horizontal para barco em carboneto de silício

Imagem em destaque da placa horizontal para barco de carboneto de silício

Pequena descrição:

Semicera fornece barcos wafer, suportee transportadores de wafer personalizados para configurações verticais/colunas e horizontais.A cerâmica avançada oferece excelente resistência ao calor e durabilidade do plasma, ao mesmo tempo que reduz partículas e poluentes.O carboneto de silício de grau semicondutor (SiC) também fornece resistência a altas temperaturas para transportadores de wafer de alta capacidade.

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Apresentando nossa placa horizontal de carboneto de silício de última geração, meticulosamente projetada para aplicações de processamento de wafer da indústria de semicondutores.Fabricada com o melhor carboneto de silício, nossa placa horizontal para barco se destaca por suas propriedades térmicas superiores, resistência química e resistência mecânica.Ideal para processos de alta temperatura, esta placa para barco foi projetada para oferecer desempenho excepcional, garantindo precisão e eficiência em cada uso.

Características principais

Durabilidade excepcional:Feito de carboneto de silício de alta pureza, nosso placa de barcofoi projetado para suportar temperaturas extremas de até1600°C, oferecendo durabilidade e vida útil incomparáveis.

Distribuição Uniforme de Calor:A condutividade térmica do carboneto de silício garante uma distribuição uniforme do calor pela placa, o que é fundamental para manter a consistência do processo e alcançar a produção de wafers de alta qualidade.

Resistência química:Resistente a produtos químicos corrosivos e ambientes agressivos, nossa placa para barco mantém integridade e desempenho, mesmo nas aplicações de processamento de semicondutores mais exigentes.

Alta resistência mecânica:A construção robusta do nossoplaca de barcogarante excelente resistência mecânica e resistência ao desgaste, reduzindo o risco de danos e a necessidade de substituições frequentes.

Formulários:

NossoPlaca horizontal para barco em carboneto de silícioé perfeito para uma ampla gama de processos de alta temperatura na fabricação de semicondutores, incluindo, entre outros, processos de difusão, oxidação, implantação de íons e CVD.Seu design e materiais garantem que ele possa atender aos requisitos precisos do processamento de wafer, tornando-o um componente essencial para linhas de produção de semicondutores.

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