Suporte para wafer

Suporte para waferé um componente indispensável no processo de epitaxia. Semicera oferece o melhor suporte paraSi EpitaxiaeEpitaxia SiCprocessos através de excelente design e fabricação. Nosso suporte para wafer pode garantir que o wafer permaneça posicionado com precisão durante o processo de epitaxia, garantindo uniformidade de distribuição de calor e fluxo de ar, desempenhando especialmente um papel fundamental emSusceptor de MOCVDeSusceptor de Barril. Quer se trate da deposição de silício monocristalino (silício monocristalino) ou do complexo processo químico de deposição de vapor, o Wafer Holder da Semicera pode garantir uma estrutura cristalina de alta qualidade e um crescimento estável da camada epitaxial.

O suporte para wafer da Semicera é feito de materiais resistentes a altas temperaturas de alta qualidade, com resistência mecânica e estabilidade térmica extremamente altas, e pode ser usado por um longo tempo em ambientes químicos complexos e de alta temperatura sem falhas. Especialmente noSi EpitaxiaeEpitaxia SiCprocessos, o Wafer Holder da Semicera reduz a taxa de defeitos e a perda de wafer no processo por meio de controle preciso e excelente seleção de materiais.

Nós fornecemos personalizadoBolachaSuportes para diferentes requisitos de processos e equipamentos, especialmente em aplicações de Susceptor MOCVD e Susceptor de Barril. Os produtos da Semicera não só prolongam a vida útil do equipamento, mas também melhoram a eficiência e a estabilidade do processo de epitaxia, garantindo que a produção de cada wafer atenda aos rígidos padrões da indústria.

A Semicera sempre se comprometeu a fornecer aos clientes porta-wafers de alto desempenho, seja para pesquisa e desenvolvimento ou produção em massa, para atender às diversas necessidades dos clientes nos processos Si Epitaxy e SiC Epitaxy. Continuamos a inovar para garantir que os clientes possam obter a melhor qualidade de produto e controle de processo no processo de fabricação de semicondutores.