Introdução ao revestimento CVD TaC:
O revestimento CVD TaC é uma tecnologia que utiliza deposição química de vapor para depositar o revestimento de carboneto de tântalo (TaC) na superfície de um substrato. O carboneto de tântalo é um material cerâmico de alto desempenho com excelentes propriedades mecânicas e químicas. O processo CVD gera um filme uniforme de TaC na superfície do substrato através da reação gasosa.
Principais características:
Excelente dureza e resistência ao desgaste: O carboneto de tântalo tem dureza extremamente alta e o revestimento CVD TaC pode melhorar significativamente a resistência ao desgaste do substrato. Isto torna o revestimento ideal para aplicações em ambientes de alto desgaste, como ferramentas de corte e moldes.
Estabilidade em altas temperaturas: Os revestimentos TaC protegem componentes críticos do forno e do reator em temperaturas de até 2.200°C, demonstrando boa estabilidade. Ele mantém a estabilidade química e mecânica sob condições extremas de temperatura, tornando-o adequado para processamento em alta temperatura e aplicações em ambientes de alta temperatura.
Excelente estabilidade química: O carboneto de tântalo tem forte resistência à corrosão à maioria dos ácidos e álcalis, e o revestimento CVD TaC pode prevenir eficazmente danos ao substrato em ambientes corrosivos.
Alto ponto de fusão: O carboneto de tântalo tem um alto ponto de fusão (aproximadamente 3880°C), permitindo que o revestimento CVD TaC seja usado em condições de temperaturas extremamente altas sem derreter ou degradar.
Excelente condutividade térmica: O revestimento TaC possui alta condutividade térmica, o que ajuda a dissipar efetivamente o calor em processos de alta temperatura e evitar o superaquecimento local.
Aplicações potenciais:
• Componentes do reator CVD epitaxial de nitreto de gálio (GaN) e carboneto de silício, incluindo transportadores de wafer, antenas parabólicas, chuveiros, tetos e susceptores
• Componentes de crescimento de cristais de carboneto de silício, nitreto de gálio e nitreto de alumínio (AlN), incluindo cadinhos, porta-sementes, anéis-guia e filtros
• Componentes industriais, incluindo elementos de aquecimento por resistência, bicos de injeção, anéis de mascaramento e gabaritos de brasagem
Recursos do aplicativo:
• Temperatura estável acima de 2.000°C, permitindo operação em temperaturas extremas
•Resistente ao hidrogênio (Hz), amônia (NH3), monosilano (SiH4) e silício (Si), proporcionando proteção em ambientes químicos agressivos
• Sua resistência ao choque térmico permite ciclos operacionais mais rápidos
• O grafite possui forte adesão, garantindo longa vida útil e sem delaminação do revestimento.
• Pureza ultra-alta para eliminar impurezas ou contaminantes desnecessários
• Cobertura de revestimento isolante para tolerâncias dimensionais restritas
Especificações técnicas:
Preparação de revestimentos densos de carboneto de tântalo por CVD：
Revestimento TAC com alta cristalinidade e excelente uniformidade:
Parâmetros técnicos_Semicera do revestimento CVD TAC:
Os acima são valores típicos.
