Nosso LPCVD(Deposição Química de Vapor de Baixa Pressão)Barco de carboneto de silícioé projetado com tecnologia de ponta, projetado para o processo de fabricação de semicondutores em alta temperatura. Este produto de alta qualidadebarco de carboneto de silíciooferece desempenho e confiabilidade excepcionais sob condições extremas, tornando-o a escolha ideal para fabricação de semicondutores e outros processos de alta temperatura.
Estabilidade em altas temperaturas:Nossobarco de carboneto de silícioresiste a temperaturas até1700°C, garantindo estabilidade e desempenho em operações contínuas em alta temperatura.
Inércia Química:Com excelente estabilidade química, resiste à corrosão por ácidos, bases e outros produtos químicos corrosivos, garantindo durabilidade durante o uso a longo prazo.
Condutividade Térmica Superior:A alta condutividade térmica garante uma distribuição uniforme da temperatura em todo o barco, contribuindo para melhorar a qualidade e consistência do produto.
Força e resistência ao desgaste:A resistência mecânica e a resistência ao desgaste excepcionais permitem o uso contínuo sem danos, reduzindo a frequência e o custo de substituição.
Aplicações:
Adequado para vários processos de alta temperatura, incluindo, entre outros, fabricação de semicondutores, produção de células solares e operações de fornos de alta temperatura. Seu alto desempenho e confiabilidade fazem dele a escolha ideal para essas aplicações exigentes.
Por que escolherNosso LPCVDBarco de carboneto de silício?
Estamos comprometidos em fornecer os mais altos padrões de produtos e serviços.Nosso LPCVDBarco de carboneto de silícionão só proporciona excelente desempenho e durabilidade, mas também ajuda a otimizar a eficiência e a qualidade da produção, reduzindo os custos operacionais. Escolher-nos significa selecionar um parceiro de confiança para impulsionar o seu negócio.