Processo de produção de wafer de carboneto de silício

Bolacha de carboneto de silícioé feito de pó de silício de alta pureza e pó de carbono de alta pureza como matéria-prima, e o cristal de carboneto de silício é cultivado pelo método de transferência física de vapor (PVT) e processado embolacha de carboneto de silício.

① Síntese de matéria-prima.Pó de silício de alta pureza e pó de carbono de alta pureza foram misturados de acordo com uma determinada proporção, e partículas de carboneto de silício foram sintetizadas em altas temperaturas acima de 2.000 ℃.Após trituração, limpeza e outros processos, são preparadas matérias-primas em pó de carboneto de silício de alta pureza que atendem aos requisitos de crescimento de cristais.

② Crescimento de cristal.Usando pó SIC de alta pureza como matéria-prima, o cristal foi cultivado pelo método de transferência física de vapor (PVT) usando forno de crescimento de cristal autodesenvolvido.

③ processamento de lingotes.O lingote de cristal de carboneto de silício obtido foi orientado por um orientador de cristal único de raios X, depois moído e laminado e processado em cristal de carboneto de silício de diâmetro padrão.

④ Corte de cristal.Usando equipamento de corte multilinha, os cristais de carboneto de silício são cortados em folhas finas com espessura não superior a 1 mm.

⑤ Moagem de cavacos.O wafer é retificado até obter a planicidade e rugosidade desejadas por fluidos de retificação de diamante de diferentes tamanhos de partículas.

⑥ Polimento de cavacos.O carboneto de silício polido sem danos superficiais foi obtido por polimento mecânico e polimento químico-mecânico.

⑦ Detecção de chips.Use microscópio óptico, difratômetro de raios X, microscópio de força atômica, testador de resistividade sem contato, testador de planicidade de superfície, testador abrangente de defeitos de superfície e outros instrumentos e equipamentos para detectar a densidade de microtúbulos, qualidade de cristal, rugosidade de superfície, resistividade, empenamento, curvatura, mudança de espessura, arranhões na superfície e outros parâmetros do wafer de carboneto de silício.De acordo com isso, é determinado o nível de qualidade do chip.

⑧ Limpeza de cavacos.A folha de polimento de carboneto de silício é limpa com agente de limpeza e água pura para remover o líquido de polimento residual e outras sujeiras superficiais na folha de polimento e, em seguida, o wafer é soprado e sacudido para secar por nitrogênio de altíssima pureza e máquina de secagem;O wafer é encapsulado em uma caixa limpa em uma câmara superlimpa para formar um wafer de carboneto de silício pronto para uso.

Quanto maior o tamanho do chip, mais difícil será o crescimento do cristal e a tecnologia de processamento correspondente, e quanto maior a eficiência de fabricação dos dispositivos downstream, menor será o custo unitário.