Soluções versáteis de feltro duro de grafite da Semicera para vários processos de fabricação de semicondutores

Pequena descrição:

Apresentando as versáteis soluções de feltro rígido de grafite da Semicera, adaptadas para uma ampla gama de processos de fabricação de semicondutores.Com sua excepcional versatilidade e confiabilidade, nossos produtos oferecem desempenho consistente, permitindo operações eficientes e precisas em diversos ambientes de produção.

 


Detalhes do produto

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Detalhes do produto

Nome do Produto

Feltro de grafite

Composição química

Fibra de carbono

Densidade aparente

0,12-0,14g/cm3

Conteúdo de carbono

>=99%

Resistência à tracção

0,14Mpa

Condutividade térmica (1150℃)

0,08~0,14W/mk

Cinzas

<=0,005%

Estresse esmagador

8-10N/cm

Grossura

1-10mm

Temperatura de processamento

2500(℃)

Densidade de volume (g/cm3): 0,22-0,28
Resistência à tração (Mpa): 2,5 (Deformação 5%)
Condutividade térmica (W/mk): 0,15-0,25(25) 0,40-0,45(1400)
Resistência Específica (Ohm.cm): 0,18-0,22
Conteúdo de carbono (%): ≥99
Conteúdo de cinzas (%): ≤0,6
Absorção de umidade (%): ≤1,6
Escala de purificação: alta pureza
Temperatura de processamento: 1450-2000

Campos de aplicação:
•Fornos a vácuo
•Fornos a gás inerte
•Tratamento térmico(endurecimento, carbonização, brasagem, etc.)
•Produção de fibra de carbono
• Produção de metal duro
•Aplicações de sinterização
•Produção técnica de cerâmica
•Acostamento CVD/PVD

Tamanho disponível:
Placa: 1500*1800(máx.) Espessura 20-200mm
Tambor redondo: 1500*2000(máx.) Espessuras 20-150mm
Tambor quadrado: 1500*1500*2000(Max) Espessura 60-120mm
Faixa de temperatura aplicável: 1250-2600

Feltro Rígido (2)
Feltro Rígido (1)
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Local de trabalho semicera Local de trabalho de Semicera 2 Máquina de equipamento Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD Nosso serviço


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