O anel de gravação CVD SiC da Semicera, uma solução de primeira linha projetada para processos avançados de fabricação de semicondutores. Nossos anéis de gravação são habilmente elaborados para melhorar o desempenho dos chuveiros CVD SiC, garantindo ótimos resultados durante o processo de difusão. Com sua construção robusta e engenharia de precisão, esses anéis proporcionam a confiabilidade e a eficiência necessárias para aplicações de ataque a seco de alta qualidade.
Na Semicera, entendemos o papel crítico que o carboneto de silício desempenha na tecnologia de semicondutores. Nossos anéis de gravação CVD SiC são projetados especificamente para acomodar vários processos, incluindo MOCVD e outras técnicas de gravação. A composição sólida de SiC garante excelente estabilidade térmica e resistência química, tornando nossos anéis de gravação uma escolha preferida para os ambientes mais exigentes.
Nosso compromisso com a inovação e a qualidade garante que cada anel de gravação CVD SiC atenda aos mais altos padrões da indústria. Escolha Semicera para suas soluções de gravação e experimente desempenho e durabilidade incomparáveis, adaptados às suas necessidades exclusivas. Com nossa experiência em chuveiros de SiC e tecnologia de gravação, estamos aqui para apoiar seu sucesso no campo de semicondutores.
Na área de semicondutores, a estabilidade de cada componente é muito importante para todo o processo. No entanto, em um ambiente de alta temperatura, o grafite é facilmente oxidado e perdido, e o revestimento de SiC pode fornecer proteção estável para peças de grafite. NoSemíceraequipe, temos nosso próprio equipamento de processamento de purificação de grafite, que pode controlar a pureza da grafite abaixo de 5 ppm. A pureza do revestimento de carboneto de silício também está abaixo de 5 ppm.
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