Susceptor de Wafer

Susceptor de Waferé um componente central indispensável no processo de epitaxia. A Semicera oferece excelentes soluções paraSi EpitaxiaeEpitaxia SiCprocessos por meio de projeto e fabricação de precisão. Nosso Wafer Susceptor garante distribuição uniforme de calor durante o processo de epitaxia e melhora a qualidade de deposição da camada de silício monocristalino (silício monocristalino). Funciona bem em diferentes tipos deSusceptores MOCVDeSusceptores de Barrile é adequado para vários processos de fabricação de semicondutores.

de SemíceraBolachaO susceptor é feito de materiais de alta resistência com excelente resistência a altas temperaturas e resistência à corrosão, e pode permanecer estável por um longo tempo, mesmo sob condições complexas de processo de epitaxia. Seja nos processos Si Epitaxy ou SiC Epitaxy, o Susceptor da Semicera pode fornecer suporte preciso ao controle de temperatura para garantir a consistência de qualidade dos wafers durante o crescimento da epitaxia.

Além disso, o Susceptor Wafer da Semicera também é processado com precisão para se adaptar a uma variedade de equipamentos e requisitos de especificações, especialmente em aplicações de Susceptor MOCVD e Susceptor de Barril. Com excelente seleção de materiais e controle de processo, nossos produtos não apenas melhoram a eficiência da produção, mas também reduzem significativamente a taxa de defeitos e o consumo de energia no processo.

Para os processos de epitaxia extremamente exigentes na indústria de semicondutores, o Wafer Susceptor da Semikera é a escolha ideal. Seja para pesquisa e desenvolvimento ou produção em massa, nosso Wafer Susceptor pode ajudar os clientes a obter maior confiabilidade e melhor estrutura cristalina nos processos Si Epitaxy e SiC Epitaxy.