O Wafer SOI (Silicon On Insulator) da Semicera foi projetado para fornecer isolamento elétrico e desempenho térmico superiores. Esta inovadora estrutura de wafer, com uma camada de silício sobre uma camada isolante, garante melhor desempenho do dispositivo e redução do consumo de energia, tornando-o ideal para uma variedade de aplicações de alta tecnologia.
Nossos wafers SOI oferecem benefícios excepcionais para circuitos integrados, minimizando a capacitância parasita e melhorando a velocidade e a eficiência do dispositivo. Isto é crucial para a eletrónica moderna, onde o elevado desempenho e a eficiência energética são essenciais para aplicações de consumo e industriais.
Semicera emprega técnicas avançadas de fabricação para produzir wafers SOI com qualidade e confiabilidade consistentes. Esses wafers oferecem excelente isolamento térmico, tornando-os adequados para uso em ambientes onde a dissipação de calor é uma preocupação, como em dispositivos eletrônicos de alta densidade e sistemas de gerenciamento de energia.
O uso de wafers SOI na fabricação de semicondutores permite o desenvolvimento de chips menores, mais rápidos e mais confiáveis. O compromisso da Semicera com a engenharia de precisão garante que nossos wafers SOI atendam aos altos padrões exigidos para tecnologias de ponta em áreas como telecomunicações, automotiva e eletrônicos de consumo.
Escolher o SOI Wafer da Semicera significa investir em um produto que apoie o avanço das tecnologias eletrônicas e microeletrônicas. Nossos wafers são projetados para oferecer melhor desempenho e durabilidade, contribuindo para o sucesso de seus projetos de alta tecnologia e garantindo que você permaneça na vanguarda da inovação.
Unid | Produção | Pesquisar | Fictício |
Parâmetros de Cristal | |||
Politipo | 4H | ||
Erro de orientação de superfície | <11-20 >4±0,15° | ||
Parâmetros Elétricos | |||
Dopante | Nitrogênio tipo n | ||
Resistividade | 0,015-0,025ohm·cm | ||
Parâmetros Mecânicos | |||
Diâmetro | 150,0±0,2 mm | ||
Grossura | 350±25 μm | ||
Orientação plana primária | [1-100]±5° | ||
Comprimento plano primário | 47,5±1,5mm | ||
Apartamento secundário | Nenhum | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm(5mm*5mm) | ≤5 μm(5mm*5mm) | ≤10 μm(5mm*5mm) |
Arco | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Urdidura | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Rugosidade frontal (Si-face) (AFM) | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Estrutura | |||
Densidade de microtubos | <1 ea/cm2 | <10 ea/cm2 | <15 ea/cm2 |
Impurezas metálicas | ≤5E10átomos/cm2 | NA | |
DBP | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Qualidade frontal | |||
Frente | Si | ||
Acabamento de superfície | CMP de face Si | ||
Partículas | ≤60ea/wafer (tamanho≥0,3μm) | NA | |
Arranhões | ≤5ea/mm. Comprimento cumulativo ≤Diâmetro | Comprimento cumulativo≤2*Diâmetro | NA |
Casca de laranja/caroços/manchas/estrias/rachaduras/contaminação | Nenhum | NA | |
Lascas/reentrâncias/fraturas/placas sextavadas nas bordas | Nenhum | ||
Áreas politípicas | Nenhum | Área acumulada≤20% | Área acumulada≤30% |
Marcação a laser frontal | Nenhum | ||
Qualidade traseira | |||
Acabamento traseiro | CMP face C | ||
Arranhões | ≤5ea/mm, comprimento cumulativo≤2*Diâmetro | NA | |
Defeitos traseiros (lascas/recortes nas bordas) | Nenhum | ||
Rugosidade nas costas | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Marcação a laser traseira | 1 mm (da borda superior) | ||
Borda | |||
Borda | Chanfro | ||
Embalagem | |||
Embalagem | Epi-pronto com embalagem a vácuo Embalagem cassete multi-wafer | ||
*Observações: "NA" significa sem solicitação. Itens não mencionados podem referir-se ao SEMI-STD. |