Suporte para wafer de carboneto de silício

Imagem em destaque do suporte de wafer de carboneto de silício

Breve descrição:

O suporte para wafer de carboneto de silício da Semicera foi projetado para suportar processos de epitaxia de alta temperatura e alta precisão, especialmente para processos de fabricação como Si Epitaxy e SiC Epitaxy. Como componente chave do processo de epitaxia, este produto da semicera garante excelente desempenho em aplicações como MOCVD Susceptor e PSS Etching Carrier através de um design inovador. A Semicera sempre esteve comprometida em fornecer soluções eficientes e confiáveis para a indústria de fabricação de semicondutores.

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O suporte para wafer de carboneto de silício não só pode ser usado para transportador RTP, susceptor epitaxial de LED e susceptor de barril, mas também suporta carregamento estável no processo de fabricação de silício monocristalino. Este produto também funciona bem em Susceptores de Panqueca e Peças Fotovoltaicas, e é particularmente adequado para uso no processo de GaN em SiC Epitaxy, melhorando efetivamente a eficiência da produção e reduzindo defeitos.

O suporte para wafer de carboneto de silício da Semicera usa materiais de carboneto de silício de alta qualidade, que não apenas possuem excelente resistência a altas temperaturas, mas também podem permanecer estáveis em ambientes corrosivos. Seja no ICP Etching Carrier ou em outros processos complexos de epitaxia e gravação, este produto pode garantir carregamento estável de wafer, reduzir o estresse e otimizar a qualidade de fabricação.

O suporte para wafer de carboneto de silício da Semicera foi projetado para processos complexos de epitaxia e gravação. Com seu excelente desempenho e alta durabilidade, tornou-se a escolha ideal na fabricação de semicondutores. Seja apoiando Si Epitaxy ou SiC Epitaxy, a semicera está comprometida em fornecer aos clientes produtos e serviços de primeira classe.

Excelente resistência ao calor e à corrosão, equipamento de fabricação de semicondutores amplamente aplicável