Placa transportadora RTA de carboneto de silício para semicondutores

Breve descrição:

O carboneto de silício é um novo tipo de cerâmica com alto desempenho de custo e excelentes propriedades de material. Devido a características como alta resistência e dureza, resistência a altas temperaturas, grande condutividade térmica e resistência à corrosão química, o carboneto de silício pode suportar quase todos os meios químicos. Portanto, o SiC é amplamente utilizado na mineração de petróleo, na indústria química, em máquinas e no espaço aéreo, até mesmo a energia nuclear e os militares têm suas demandas especiais no SIC. Algumas aplicações normais que podemos oferecer são anéis de vedação para bombas, válvulas e armaduras de proteção, etc.

Somos capazes de projetar e fabricar de acordo com suas dimensões específicas com boa qualidade e prazo de entrega razoável.


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Descrição

Nossa empresa fornece serviços de processo de revestimento de SiC pelo método CVD na superfície de grafite, cerâmica e outros materiais, para que gases especiais contendo carbono e silício reajam em alta temperatura para obter moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas na superfície dos materiais revestidos, formando camada protetora SIC.

Principais recursos

1. Resistência à oxidação em alta temperatura:
a resistência à oxidação ainda é muito boa quando a temperatura chega a 1600 C.
2. Alta pureza: feita por deposição química de vapor sob condições de cloração de alta temperatura.
3. Resistência à erosão: alta dureza, superfície compacta, partículas finas.
4. Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD

Estrutura Cristalina Fase β do FCC
Densidade g/cm³ 3.21
Dureza Dureza Vickers 2500
Tamanho do grão μm 2~10
Pureza Química % 99.99995
Capacidade de calor J·kg-1·K-1 640
Temperatura de Sublimação 2700
Força Felexural MPa (TR 4 pontos) 415
Módulo de Young Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) 430
Expansão Térmica (CTE) 10-6K-1 4,5
Condutividade térmica (W/mK) 300
Local de trabalho semicera
Local de trabalho de Semicera 2
Máquina de equipamento
Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD
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