Pá de wafer cantilever de carboneto de silício

A SemíceraPá de wafer cantilever SiCfoi projetado para atender às demandas da fabricação moderna de semicondutores. Essepá de waferoferece excelente resistência mecânica e resistência térmica, o que é fundamental para o manuseio de wafers em ambientes de alta temperatura.

O design cantilever de SiC permite a colocação precisa do wafer, reduzindo o risco de danos durante o manuseio. Sua alta condutividade térmica garante que o wafer permaneça estável mesmo sob condições extremas, o que é fundamental para manter a eficiência da produção.

Além das vantagens estruturais, a SemiceraPá de wafer cantilever SiCtambém oferece vantagens em peso e durabilidade. A construção leve facilita o manuseio e a integração em sistemas existentes, enquanto o material SiC de alta densidade garante durabilidade sob condições exigentes.