O Solid SiC Focus Ring da Semicera é um componente de última geração projetado para atender às demandas da fabricação avançada de semicondutores. Feito de alta purezaCarboneto de Silício (SiC), este anel de foco é ideal para uma ampla gama de aplicações na indústria de semicondutores, especialmente emProcessos CVD SiC, gravação de plasma ePICRIE (Gravação de Íons Reativos com Plasma Acoplado Indutivamente). Conhecido por sua excepcional resistência ao desgaste, alta estabilidade térmica e pureza, garante desempenho duradouro em ambientes de alto estresse.
Em semicondutorbolachaprocessamento, os anéis de foco sólidos de SiC são cruciais para manter a gravação precisa durante aplicações de gravação a seco e gravação em wafer. O anel de foco SiC auxilia na focagem do plasma durante processos como operações de máquinas de gravação de plasma, tornando-o indispensável para gravação de pastilhas de silício. O material sólido SiC oferece resistência incomparável à erosão, garantindo a longevidade do seu equipamento e minimizando o tempo de inatividade, o que é essencial para manter o alto rendimento na fabricação de semicondutores.
O Solid SiC Focus Ring da Semicera foi projetado para suportar temperaturas extremas e produtos químicos agressivos comumente encontrados na indústria de semicondutores. Ele é projetado especificamente para uso em tarefas de alta precisão, comoRevestimentos CVD SiC, onde a pureza e a durabilidade são fundamentais. Com excelente resistência ao choque térmico, este produto garante um desempenho consistente e estável sob as condições mais adversas, incluindo a exposição a altas temperaturas durantebolachaprocessos de gravação.
Em aplicações de semicondutores, onde a precisão e a confiabilidade são fundamentais, o Solid SiC Focus Ring desempenha um papel fundamental no aumento da eficiência geral dos processos de gravação. Seu design robusto e de alto desempenho o torna a escolha perfeita para indústrias que exigem componentes de alta pureza que funcionam sob condições extremas. Seja usado emAnel SiC CVDaplicações ou como parte do processo de gravação a plasma, o Solid SiC Focus Ring da Semicera ajuda a otimizar o desempenho do seu equipamento, oferecendo a longevidade e a confiabilidade que seus processos de produção exigem.
Principais recursos:
• Resistência superior ao desgaste e alta estabilidade térmica
• Material SiC sólido de alta pureza para maior vida útil
• Ideal para aplicações de gravação a plasma, ICP RIE e gravação a seco
• Perfeito para gravação de wafer, especialmente em processos CVD SiC
• Desempenho confiável em ambientes extremos e altas temperaturas
• Garante precisão e eficiência na gravação de wafers de silício
Aplicações:
• Processos CVD SiC na fabricação de semicondutores
• Sistemas de gravação de plasma e ICP RIE
• Processos de gravação a seco e gravação em wafer
• Gravação e deposição em máquinas de gravação a plasma
• Componentes de precisão para anéis wafer e anéis CVD SiC
Morfologia microscópica da superfície CVD SiC
Morfologia microscópica da seção transversal de CVD SiC
