Descrição
Os susceptores de wafer SiC da Semicorex para MOCVD (deposição de vapor químico metal-orgânico) são projetados para atender às demandas exatas dos processos de deposição epitaxial. Utilizando carboneto de silício (SiC) de alta qualidade, esses susceptores oferecem durabilidade e desempenho incomparáveis em ambientes corrosivos e de alta temperatura, garantindo o crescimento preciso e eficiente de materiais semicondutores.
Principais recursos:
1. Propriedades materiais superioresConstruídos a partir de SiC de alta qualidade, nossos susceptores wafer apresentam excepcional condutividade térmica e resistência química. Essas propriedades permitem que resistam às condições extremas dos processos MOCVD, incluindo altas temperaturas e gases corrosivos, garantindo longevidade e desempenho confiável.
2. Precisão na Deposição EpitaxialA engenharia precisa de nossos susceptores de wafer SiC garante distribuição uniforme de temperatura em toda a superfície do wafer, facilitando o crescimento consistente e de alta qualidade da camada epitaxial. Essa precisão é crítica para a produção de semicondutores com propriedades elétricas ideais.
3. Maior durabilidadeO robusto material SiC oferece excelente resistência ao desgaste e à degradação, mesmo sob exposição contínua a ambientes de processo agressivos. Essa durabilidade reduz a frequência de substituições de susceptores, minimizando o tempo de inatividade e os custos operacionais.
Aplicações:
Os susceptores SiC Wafer da Semicorex para MOCVD são ideais para:
• Crescimento epitaxial de materiais semicondutores
• Processos MOCVD de alta temperatura
• Produção de GaN, AlN e outros semicondutores compostos
• Aplicações avançadas de fabricação de semicondutores
Principais especificações dos revestimentos CVD-SIC:
Benefícios:
•Alta Precisão: Garante um crescimento epitaxial uniforme e de alta qualidade.
•Desempenho duradouro: A durabilidade excepcional reduz a frequência de substituição.
• Eficiência de custos: Minimiza os custos operacionais através da redução do tempo de inatividade e da manutenção.
•Versatilidade: Personalizável para atender a vários requisitos de processo MOCVD.