Susceptor de wafer de grafite com revestimento SiC

Breve descrição:

O susceptor de wafer de grafite com revestimento SiC da Semicera Semiconductor oferece desempenho térmico superior e durabilidade para processamento de wafer. Confie na Semicera para susceptores avançados revestidos de SiC projetados para aumentar a eficiência e a confiabilidade em aplicações de semicondutores.


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Descrição

Os susceptores de wafer SiC da Semicorex para MOCVD (deposição de vapor químico metal-orgânico) são projetados para atender às demandas exatas dos processos de deposição epitaxial. Utilizando carboneto de silício (SiC) de alta qualidade, esses susceptores oferecem durabilidade e desempenho incomparáveis ​​em ambientes corrosivos e de alta temperatura, garantindo o crescimento preciso e eficiente de materiais semicondutores.

Principais recursos:

1. Propriedades materiais superioresConstruídos a partir de SiC de alta qualidade, nossos susceptores wafer apresentam excepcional condutividade térmica e resistência química. Estas propriedades permitem-lhes suportar as condições extremas dos processos MOCVD, incluindo altas temperaturas e gases corrosivos, garantindo longevidade e desempenho confiável.

2. Precisão na deposição epitaxialA engenharia precisa de nossos susceptores de wafer SiC garante distribuição uniforme de temperatura em toda a superfície do wafer, facilitando o crescimento consistente e de alta qualidade da camada epitaxial. Essa precisão é crítica para a produção de semicondutores com propriedades elétricas ideais.

3. Maior durabilidadeO robusto material SiC oferece excelente resistência ao desgaste e à degradação, mesmo sob exposição contínua a ambientes de processo agressivos. Essa durabilidade reduz a frequência de substituições de susceptores, minimizando o tempo de inatividade e os custos operacionais.

Aplicações:

Os susceptores SiC Wafer da Semicorex para MOCVD são ideais para:

• Crescimento epitaxial de materiais semicondutores

• Processos MOCVD de alta temperatura

• Produção de GaN, AlN e outros semicondutores compostos

• Aplicações avançadas de fabricação de semicondutores

Principais especificações dos revestimentos CVD-SIC:

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Benefícios:

Alta Precisão: Garante um crescimento epitaxial uniforme e de alta qualidade.

Desempenho duradouro: A durabilidade excepcional reduz a frequência de substituição.

• Eficiência de custos: Minimiza os custos operacionais através da redução do tempo de inatividade e da manutenção.

Versatilidade: Personalizável para atender a vários requisitos de processo MOCVD.

Local de trabalho semicera
Local de trabalho de Semicera 2
Máquina de equipamento
Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD
Armazém Semicera
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