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Engrenagem da roda com revestimento SiC: aumentando a eficiência da fabricação de semicondutores
No campo de rápido avanço da fabricação de semicondutores, a precisão e a durabilidade dos equipamentos são fundamentais para alcançar altos rendimentos e qualidade. Um dos principais componentes que garantem isso é a engrenagem da roda de revestimento SiC, projetada para melhorar a eficiência dos processos...Leia mais -
O que é um tubo de proteção de quartzo? | Semícera
O tubo de proteção de quartzo é um componente essencial em diversas aplicações industriais, conhecido por seu excelente desempenho em condições extremas. Na Semicera, produzimos tubos de proteção de quartzo projetados para alta durabilidade e confiabilidade em ambientes agressivos. Com caráter marcante...Leia mais -
O que é tubo de processo revestido por CVD? | Semícera
Um tubo de processo revestido com CVD é um componente crítico usado em vários ambientes de fabricação de alta temperatura e alta pureza, como produção de semicondutores e fotovoltaica. Na Semicera, nos especializamos na produção de tubos de processo revestidos por CVD de alta qualidade que oferecem super...Leia mais -
O que é grafite isostática? | Semícera
A grafite isostática, também conhecida como grafite formada isostáticamente, refere-se a um método onde uma mistura de matérias-primas é comprimida em blocos retangulares ou redondos em um sistema chamado prensagem isostática a frio (CIP). A prensagem isostática a frio é um método de processamento de ma...Leia mais -
O que é carboneto de tântalo? | Semícera
O carboneto de tântalo é um material cerâmico extremamente duro, conhecido por suas propriedades excepcionais, principalmente em ambientes de alta temperatura. Na Semicera, nos especializamos em fornecer carboneto de tântalo de alta qualidade que oferece desempenho superior em indústrias que exigem materiais avançados para aplicações extremas.Leia mais -
O que é um tubo central de forno de quartzo? | Semícera
Um tubo central de forno de quartzo é um componente essencial em vários ambientes de processamento de alta temperatura, amplamente utilizado em indústrias como fabricação de semicondutores, metalurgia e processamento químico. Na Semicera, nos especializamos na produção de tubos com núcleo de forno de quartzo de alta qualidade, conhecidos ...Leia mais -
Processo de Gravura a Seco
O processo de ataque a seco geralmente consiste em quatro estados básicos: antes do ataque, ataque parcial, apenas ataque e ataque excessivo. As principais características são taxa de gravação, seletividade, dimensão crítica, uniformidade e detecção de ponto final. Figura 1 Antes do ataque Figura 2 Figura 2 do ataque parcial...Leia mais -
SiC Paddle na fabricação de semicondutores
No domínio da fabricação de semicondutores, o SiC Paddle desempenha um papel crucial, particularmente no processo de crescimento epitaxial. Como um componente chave usado em sistemas MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), as pás de SiC são projetadas para suportar altas temperaturas e ...Leia mais -
O que é Wafer Paddle? | Semícera
Uma pá de wafer é um componente crucial usado nas indústrias de semicondutores e fotovoltaicas para manusear wafers durante processos de alta temperatura. Na Semicera, temos orgulho de nossas capacidades avançadas para produzir pás de wafer de alta qualidade que atendem às rigorosas demandas de...Leia mais -
Processo e equipamento de semicondutores (7/7) - Processo e equipamento de crescimento de filme fino
1. Introdução O processo de fixação de substâncias (matérias-primas) à superfície dos materiais do substrato por métodos físicos ou químicos é chamado de crescimento de filme fino. De acordo com diferentes princípios de funcionamento, a deposição de filme fino em circuito integrado pode ser dividida em: -Deposição física de vapor ( P...Leia mais -
Processo e Equipamento de Semicondutores (6/7) - Processo e Equipamento de Implantação Iônica
1. Introdução A implantação iônica é um dos principais processos na fabricação de circuitos integrados. Refere-se ao processo de acelerar um feixe de íons até uma certa energia (geralmente na faixa de keV a MeV) e depois injetá-lo na superfície de um material sólido para alterar a propr...Leia mais -
Processo e Equipamento de Semicondutores (5/7) - Processo e Equipamento de Gravura
Uma introdução A gravação no processo de fabricação de circuitos integrados é dividida em:-Gravação úmida;-Gravação a seco. No início, o ataque úmido era amplamente utilizado, mas devido às suas limitações no controle da largura da linha e na direcionalidade do ataque, a maioria dos processos após 3μm usava o ataque a seco. A gravação úmida é ...Leia mais