Câmara de reação de meia lua LPE

Imagem em destaque da câmara de reação LPE Halfmoon

Breve descrição:

O Reator Menisco LPE da Semicera foi projetado para atingir desempenho ideal em aplicações de epitaxia em fase líquida (LPE). Este reator avançado foi projetado para facilitar o crescimento de materiais semicondutores de alta qualidade, especialmente em processos de epitaxia de SiC. Na Semicera priorizamos a qualidade e confiabilidade de nossos produtos. Esperamos ser seu parceiro de longo prazo na China.

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Projetado para aplicações de epitaxia em fase líquida (LPE), o Reator Menisco LPE da Semicera apresenta um design inovador que permite eficiênciaRevestimentos CVD SiCe suporta uma variedade de processos de epitaxia, incluindo epitaxia ASM eMOCVD. A construção robusta e a engenharia de precisão do Reator Meniscal LPE garantem gerenciamento térmico eficiente e deposição uniforme.

A Semicera está comprometida em fornecer soluções de alto desempenho para a indústria de semicondutores. NossoReator Meniscal LPEé fabricado com materiais duráveis e engenharia de precisão para garantir confiabilidade e longevidade. As características exclusivas desta câmara permitem excelente gerenciamento térmico e deposição uniforme, tornando-a um grande trunfo para qualquer laboratório ou ambiente de produção.

Escolha o Reator Meniscal LPE da Semicera para aprimorar seu epitaxialProcesso MOCVDe alcançar excelentes resultados na deposição de filmes finos. Nossa dedicação à qualidade e inovação garante que você receba um produto que atenda aos mais altos padrões da indústria.