O barco de grafite isostático PECVD SEMICERA é um produto de grafite de alta pureza e alta densidade projetado para suporte de wafer no processo PECVD (deposição química de vapor aprimorada por plasma). SEMICERA utiliza tecnologia avançada de prensagem isostática para garantir que o barco de grafite tenha excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, estabilidade dimensional e boa condutividade térmica, que é um consumível indispensável no processo de fabricação de semicondutores.
O barco isostático de grafite PECVD SEMICERA tem as seguintes vantagens:
▪ Alta pureza: O material de grafite é de alta pureza e baixo teor de impurezas para evitar contaminação da superfície do wafer.
▪ Alta densidade: Alta densidade, alta resistência mecânica, pode suportar altas temperaturas e ambientes de alto vácuo.
▪ Boa estabilidade dimensional: Pequena alteração dimensional em alta temperatura para garantir a estabilidade do processo.
▪ Excelente condutividade térmica: Transfere calor de forma eficaz para evitar o superaquecimento do wafer.
▪ Forte resistência à corrosão: Capaz de resistir à erosão por vários gases corrosivos e plasma.
Parâmetro de desempenho | semicera | SGL R6510 | Parâmetro de desempenho |
Densidade aparente (g/cm3) | 1,91 | 1,83 | 1,85 |
Resistência à flexão (MPa) | 63 | 60 | 49 |
Resistência à compressão (MPa) | 135 | 130 | 103 |
Dureza Shore (HS) | 70 | 64 | 60 |
Coeficiente de expansão térmica (10-6/K) | 85 | 105 | 130 |
Coeficiente de expansão térmica (10-6/K) | 5,85 | 4.2 | 5,0 |
Resistividade (μΩm) | 11-13 | 13 | 10 |
Vantagens de nos escolher:
▪ Seleção de materiais: Materiais de grafite de alta pureza são usados para garantir a qualidade do produto.
▪ Tecnologia de processamento: A prensagem isostática é utilizada para garantir densidade e uniformidade do produto.
▪ Personalização de tamanho: Barcos de grafite de diversos tamanhos e formatos podem ser customizados de acordo com a necessidade do cliente.
▪ Tratamento de superfície: São fornecidos vários métodos de tratamento de superfície, como revestimento de carboneto de silício, nitreto de boro, etc., para atender a diferentes requisitos de processo.