Semicera tem o orgulho de apresentar oCabeça de chuveiro CVDcomRevestimento SiC, que foi projetado para atender às necessidades dos campos modernos de semicondutores e ciência de materiais para equipamentos eficientes e confiáveis. O especialmente projetadoCarboneto de Silício Revestidopermite que este chuveiro mantenha excelente desempenho sob condições químicas e térmicas extremas, melhorando significativamente a durabilidade do equipamento.
Durante o processo de DCV, a aplicação doCabeça de chuveiro CVDcom SiC Coat garante uniformidade e estabilidade na deposição de material, especialmente no processamento de quartzo de alta pureza ebolachas. Através da tecnologia de revestimento otimizada, o chuveiro da Semicera pode reduzir o tempo de reação, melhorar a eficiência geral do processo e reduzir os custos de produção.
Além disso, o chuveiro é compatível comRevestimento TACtecnologia, fornecendo aos clientes opções de aplicação mais flexíveis. A equipe de P&D da Semicera continua explorando materiais e tecnologias avançadas para garantir a competitividade e a posição de liderança do chuveiro CVD com revestimento de SiC no mercado.
Escolhendo o chuveiro CVD da Semicera com SiC Coat, você obterá um produto confiável e de alto desempenho que o ajudará a obter os melhores resultados de deposição em suas aplicações CVD. A Semicera está sempre comprometida em fornecer aos clientes soluções de semicondutores de alta qualidade e promover o desenvolvimento e a inovação da indústria.
✓Qualidade superior no mercado chinês
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