Substrato sic tipo n de 6 polegadas

Breve descrição:

O substrato SiC tipo n de 6 polegadas‌ é um material semicondutor caracterizado pelo uso de um tamanho de wafer de 6 polegadas, o que aumenta o número de dispositivos que podem ser produzidos em um único wafer em uma área de superfície maior, reduzindo assim os custos no nível do dispositivo . O desenvolvimento e aplicação de substratos de SiC tipo n de 6 polegadas se beneficiaram do avanço de tecnologias como o método de crescimento RAF, que reduz deslocamentos cortando cristais ao longo de deslocamentos e direções paralelas e regenerando cristais, melhorando assim a qualidade do substrato. A aplicação deste substrato é de grande importância para melhorar a eficiência da produção e reduzir custos de dispositivos de energia SiC.

 


Detalhes do produto

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O material de cristal único de carboneto de silício (SiC) tem uma grande largura de banda (~Si 3 vezes), alta condutividade térmica (~Si 3,3 vezes ou GaAs 10 vezes), alta taxa de migração de saturação de elétrons (~Si 2,5 vezes), alta quebra elétrica campo (~Si 10 vezes ou GaAs 5 vezes) e outras características excepcionais.

Os materiais semicondutores de terceira geração incluem principalmente SiC, GaN, diamante, etc., porque sua largura de banda larga (por exemplo) é maior ou igual a 2,3 elétron-volts (eV), também conhecidos como materiais semicondutores de banda larga. Em comparação com os materiais semicondutores de primeira e segunda geração, os materiais semicondutores de terceira geração têm as vantagens de alta condutividade térmica, alto campo elétrico de ruptura, alta taxa de migração de elétrons saturados e alta energia de ligação, que podem atender aos novos requisitos da tecnologia eletrônica moderna para alta temperatura, alta potência, alta pressão, alta frequência e resistência à radiação e outras condições adversas. Tem importantes perspectivas de aplicação nas áreas de defesa nacional, aviação, aeroespacial, exploração de petróleo, armazenamento óptico, etc., e pode reduzir a perda de energia em mais de 50% em muitas indústrias estratégicas, como comunicações de banda larga, energia solar, fabricação de automóveis, iluminação de semicondutores e rede inteligente, e pode reduzir o volume de equipamentos em mais de 75%, o que é de grande importância para o desenvolvimento da ciência e tecnologia humanas.

A energia Semicera pode fornecer aos clientes substrato de carboneto de silício condutivo (condutor), semi-isolante (semi-isolante), HPSI (semi-isolante de alta pureza) de alta qualidade; Além disso, podemos fornecer aos clientes folhas epitaxiais de carboneto de silício homogêneas e heterogêneas; Também podemos personalizar a folha epitaxial de acordo com as necessidades específicas dos clientes, não havendo quantidade mínima de pedido.

ESPECIFICAÇÕES BÁSICAS DO PRODUTO

Tamanho

 6 polegadas
Diâmetro 150,0 mm + 0 mm/-0,2 mm
Orientação de superfície fora do eixo: 4° em direção a<1120>±0,5°
Comprimento plano primário 47,5mm1,5mm
Orientação Plana Primária <1120>±1,0°
Plano Secundário Nenhum
Grossura 350,0um±25,0um
Politipo 4H
Tipo condutor tipo n

ESPECIFICAÇÕES DE QUALIDADE DO CRISTAL

6 polegadas
Item Grau P-MOS Grau P-SBD
Resistividade 0,015Ω·cm-0,025Ω·cm
Politipo Nenhum permitido
Densidade do Microtubo ≤0,2/cm2 ≤0,5/cm2
DEP ≤4000/cm2 ≤8000/cm2
TED ≤3000/cm2 ≤6000/cm2
DBP ≤1000/cm2 ≤2000/cm2
TSD ≤300/cm2 ≤1000/cm2
SF (medido porUV-PL-355nm) ≤0,5% de área ≤1% de área
Placas hexagonais por luz de alta intensidade Nenhum permitido
Visual CarbonInclusões por luz de alta intensidade Área cumulativa≤0,05%
微信截图_20240822105943

Resistividade

Politipo

Substrato sic tipo n de 6 polegadas (3)
Substrato sic tipo n de 6 polegadas (4)

BPD&TSD

Substrato sic tipo n de 6 polegadas (5)
Bolachas de SiC

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