O material de cristal único de carboneto de silício (SiC) tem uma grande largura de banda (~Si 3 vezes), alta condutividade térmica (~Si 3,3 vezes ou GaAs 10 vezes), alta taxa de migração de saturação de elétrons (~Si 2,5 vezes), alta quebra elétrica campo (~Si 10 vezes ou GaAs 5 vezes) e outras características excepcionais.
Os materiais semicondutores de terceira geração incluem principalmente SiC, GaN, diamante, etc., porque sua largura de banda larga (por exemplo) é maior ou igual a 2,3 elétron-volts (eV), também conhecidos como materiais semicondutores de banda larga. Em comparação com os materiais semicondutores de primeira e segunda geração, os materiais semicondutores de terceira geração têm as vantagens de alta condutividade térmica, alto campo elétrico de ruptura, alta taxa de migração de elétrons saturados e alta energia de ligação, que podem atender aos novos requisitos da tecnologia eletrônica moderna para alta temperatura, alta potência, alta pressão, alta frequência e resistência à radiação e outras condições adversas. Tem importantes perspectivas de aplicação nas áreas de defesa nacional, aviação, aeroespacial, exploração de petróleo, armazenamento óptico, etc., e pode reduzir a perda de energia em mais de 50% em muitas indústrias estratégicas, como comunicações de banda larga, energia solar, fabricação de automóveis, iluminação de semicondutores e rede inteligente, e pode reduzir o volume de equipamentos em mais de 75%, o que é de grande importância para o desenvolvimento da ciência e tecnologia humanas.
A energia Semicera pode fornecer aos clientes substrato de carboneto de silício condutivo (condutor), semi-isolante (semi-isolante), HPSI (semi-isolante de alta pureza) de alta qualidade; Além disso, podemos fornecer aos clientes folhas epitaxiais de carboneto de silício homogêneas e heterogêneas; Também podemos personalizar a folha epitaxial de acordo com as necessidades específicas dos clientes, não havendo quantidade mínima de pedido.
ESPECIFICAÇÕES BÁSICAS DO PRODUTO
Tamanho | 6 polegadas |
Diâmetro | 150,0 mm + 0 mm/-0,2 mm |
Orientação de superfície | fora do eixo: 4° em direção a<1120>±0,5° |
Comprimento plano primário | 47,5mm1,5mm |
Orientação Plana Primária | <1120>±1,0° |
Plano Secundário | Nenhum |
Grossura | 350,0um±25,0um |
Politipo | 4H |
Tipo condutor | tipo n |
ESPECIFICAÇÕES DE QUALIDADE DO CRISTAL
6 polegadas | ||
Item | Grau P-MOS | Grau P-SBD |
Resistividade | 0,015Ω·cm-0,025Ω·cm | |
Politipo | Nenhum permitido | |
Densidade do Microtubo | ≤0,2/cm2 | ≤0,5/cm2 |
DEP | ≤4000/cm2 | ≤8000/cm2 |
TED | ≤3000/cm2 | ≤6000/cm2 |
DBP | ≤1000/cm2 | ≤2000/cm2 |
TSD | ≤300/cm2 | ≤1000/cm2 |
SF (medido porUV-PL-355nm) | ≤0,5% de área | ≤1% de área |
Placas hexagonais por luz de alta intensidade | Nenhum permitido | |
Visual CarbonInclusões por luz de alta intensidade | Área cumulativa≤0,05% |